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射频磁控溅射沉积条件对PMN-PT压电薄膜相形成及性能的影响研究

为解决传统PZT压电薄膜性能瓶颈问题，研究人员通过射频磁控溅射(RF Magnetron Sputtering)在铂硅基底上生长PMN-PT薄膜，系统研究了沉积温度、氧分压等参数对薄膜相纯度和性能的影响。结果表明，优化条件可获得无焦绿石相的纯钙钛矿结构，其铁电性能(Ps=57.84 μC/cm2 ...